氣相沉積釹鐵硼防護的技術是什么
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發布日期：2021.04.20 10:15
據鑫磊磁電小編了解，日本某些釹鐵硼磁鐵生產商采用熱蒸發和熱噴涂相結合的方法，在釹鐵硼表面沉積金屬鋁進行防護，目前國內尚未有單位掌握這項技術。
長期來看，物理氣相沉積技術(PVD)，如磁控濺射、離子鍍等，是一種非常好的沉積方法。
方法。用此工藝在釹鐵硼表面沉積金屬膜，其穩定性及鍍層/基體結合力高，致密度大，在冷熱交變環境中抗腐蝕能力強。研究表明，如果沉積過程中濺射粒子的能量足夠大，可以提高磁性矯頑力。
此外，釹鐵硼磁體工件的邊角對施鍍厚度的影響程度遠低于電鍍和化學鍍，而且施鍍過程不會產生污染。最近幾年，由于技術的發展，生產成本大大降低。
采用物理氣相法沉積可得到多種類型的鍍層，而Al鍍層是一種比較經濟的鍍層方法，是一種很有前途的先進防護技術，因此，該技術的產業化推廣研究應引起產業界和政府部門的重視。
金屬鍍層的物理氣相沉積工藝要解決的問題有：
(1)釹鐵硼磁體保護要求在器件的每一面都采用相同的鍍層，如何解決磁體在批量加工時的三維旋轉問題，保證成膜質量的一致性，既是一個工程技術問題，又是一個濺射粒子在薄膜表面運動沉積的機理問題；
燒結釹鐵硼永磁體由于生產過程中表面和內部有大量氣孔，需要研究磁體結構形態對濺射層的影響，提高其結合力；
(3)高能量濺射原子在工件表面可達到一定深度，在磁體表面形成磁疇，提高了磁疇的矯頑力，可以通過釘扎機理及其對磁性的影響來控制和優化磁體性能；
(4)金屬膜的物理氣相沉積腐蝕機理的研究；
降低物理氣相沉積規模工藝的成本，提高其市場競爭力，并替代或部分替代現有環境和資源負荷較大的電鍍釹鐵硼工藝，鑫磊磁電小編認為將是該領域的長期研究目標。
